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太阳能新产品——太阳能电池材料碱性蚀刻液:SUN-X系列

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硅蚀刻液可令硅结晶型太阳能电池表面形成金字塔状细微纹理结构,用于降低反射率。一般作为蚀刻液的是IPA-碱混合液。不过,本公司此次开发了作为不含IPA  的太阳能电池硅片蚀刻液的“SUN-X 系列”。下面请由我为各位做“SUN-X 系列”的简单介绍。

☆ SUN-X系列基本原理

1) 与环境保护相对应
不使用IPA 
SUN-X 成分仅含低挥发性化合物与水


<沸点>

SUN-X添加物:200以上

IPA:82.4


→减少大气污染

2) 高产量
比较使用SUN-X和碱/IPA做硅片蚀刻时的代表性条件。
<蚀刻液的使用条件>


蚀刻

SUN-Xs

碱性/IPA

使用时溶液的配制方法

3倍稀释

按设定量混合

蚀刻方法

浸泡

浸泡

温度(

80

55~80

时间(分钟/)

20~30

45~60

组成的稳定性

稳定

不稳定


● 使用IPA时,会发生挥发,需要时时添加,无法保持一定的浓度。
● SUN-X 系列仅可用水稀释3倍。
●  与之前方法相比,蚀刻的处理时间有望是之前的一半以下。

3)容易控制纹理形状、大小

● 一般而言,受光影响,硅片表面会吸收75%能量,反射25%能量。
被反射的光再被旁边的纹理表面吸收。
●  高低纹理相连接,反射的光就不能被吸收而会损失。
● 虽然纹路小的纹理可以很好地吸收光,但俯视图可看到还是有一部分光损失于纹理中。
●  因此,纹理的形状和大小对吸收效果的好坏(提高低反射率)有很大的影响。使用SUN-X,可形成均匀的纹理。
● 分开使用药液,可调整纹理大小。
●  使用SUN-X 600 得到的纹理尺寸约为6~8μm、使用SUN-X 1200得到的纹理尺寸约为12μm。

蚀刻液与能量转换效率

蚀刻

FF

Jsc

Voc

η

SUN-X  600

0.768

35.97

0.640

17.68

SUN-X  1200

0.770

35.61

0.636

17.43

Alkali /  IPA

0.762

34.79

0.630

16.70

●  与之前使用IPA/碱性时相比,可得到具有低反射率、高转换率的晶片。


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